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德國MLase激光器運行成本低 公司簡介： MLase一直致力于開發和生產創新和高質量的激光和光系統，這是高度專業化的專家團隊多年經驗的結果。MLase AG為客戶提供優質的產品，同時考慮到最新的技術方面。

德國OWIS過濾器支架安裝直徑為 30 mm 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR

OWIS旋轉平臺孔徑20 mm 同步齒形帶傳動 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR

德國OWIS測量臺測量范圍 5 mm 孔徑10 mm 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR

德國OWIS鏡面支架K25系列用于 SYS 40 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR

德國OWIS系統導軌反射差 黑色陽極氧化 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR

Hellma光學元件用于激光技術等領域 公司簡介： Hellma是光學分析集成解決方案的獨立供應商，也是玻璃、石英玻璃和光學晶體光學精密產品的制造商。 來自全球光子學和分子光譜學領域的客戶欣賞Hellma產品，因為它們具有高的質量和可靠性。 自 1922 年以來，Hellma 這個名字一直代表著用于光學應用的玻璃、石英和晶體加工的品質和精度。今天，這種能力為光子學和分析領域的光學應用

Hellma晶體材料氟化鈣用于紅外應用 公司簡介： Hellma是光學分析集成解決方案的獨立供應商，也是玻璃、石英玻璃和光學晶體光學精密產品的制造商。 來自全球光子學和分子光譜學領域的客戶欣賞Hellma產品，因為它們具有高的質量和可靠性。 自 1922 年以來，Hellma 這個名字一直代表著用于光學應用的玻璃、石英和晶體加工的品質和精度。今天，這種能力為光子學和分析領域的光學應用

Hellma流動比色皿130系列穩定性高 公司簡介： Hellma是光學分析集成解決方案的獨立供應商，也是玻璃、石英玻璃和光學晶體光學精密產品的制造商。 來自全球光子學和分子光譜學領域的客戶欣賞Hellma產品，因為它們具有高的質量和可靠性。 自 1922 年以來，Hellma 這個名字一直代表著用于光學應用的玻璃、石英和晶體加工的品質和精度。今天，這種能力為光子學和分析領域的光學應用

Hellma可拆卸比色皿106系列精度高 公司簡介： Hellma是光學分析集成解決方案的獨立供應商，也是玻璃、石英玻璃和光學晶體光學精密產品的制造商。 來自全球光子學和分子光譜學領域的客戶欣賞Hellma產品，因為它們具有高的質量和可靠性。 自 1922 年以來，Hellma 這個名字一直代表著用于光學應用的玻璃、石英和晶體加工的品質和精度。今天，這種能力為光子學和分析領域的光學應用